01 / SPECIFICATIONS
技术规格
| 过滤介质 | PE / Nylon / PTFE / PI |
|---|---|
| 支撑及结构件 | HDPE |
| 外壳 | HDPE |
| 密封材料 | FFKM / Kalrez |
| 最高工作温度 | 30°C |
| 最高工作压力 | 0.29 MPa @ 30°C |
| 过滤面积 | X-LINM 660 cm²；LINM PE/PTFE 1500、Nylon 1300 cm²；LINL PE/PI 3200、Nylon 2300 cm² |
02 / FEATURES
主要特点
03 / APPLICATIONS
图片来源：Cobetter · PDF 页 34
PRODUCT SERIES / Cobetter
Photogile LIN
Photogile LIN 光刻使用点过滤器
用于光刻胶分配泵和系统，按膜材与尺寸适配光刻胶、涂层液和溶剂。
- 系列型号
- Photogile LIN
- 资料品牌
- Cobetter
- 资料页码
- PDF 34, 35
Photogile LIN 产品图，摘自 Cobetter 半导体过滤目录。
