SEMICONDUCTOR
半导体
从电子化学品到制程用水，将过滤目标与工艺洁净需求逐一对应。
微小颗粒，值得认真对待。
选择您的工艺环节，查看关键需求、过滤思路和关联产品。
PROCESS / 01
CMP 浆料过滤 ↗
控制团聚及异常大颗粒，同时关注有效磨粒保留。
PROCESS / 02光刻工艺 ↗
围绕胶体、凝胶及颗粒管理，与光刻材料配方共同评估。
PROCESS / 03半导体湿法制程 ↗
将化学介质、温压和过滤节点一起纳入过滤路径设计。
PROCESS / 04平板显示 ↗
面向显示工艺中的液体颗粒控制，平衡通量与运行稳定性。
PROCESS / 05电子化学品 ↗
从储存、输送到使用点，明确不同位置的过滤目标。
PROCESS / 06薄膜工艺过滤 ↗
围绕沉积供气、吹扫与破真空，管理气路中的颗粒及连接洁净度。
PROCESS / 07新能源过滤 ↗
围绕浆料、工艺液体和公用系统识别不同的过滤任务。
PROCESS / 08MLCC 浆料过滤 ↗
控制浆料中非目标的大颗粒和杂质，并关注组分均一性。